센사이 글리콜 산 각질 제거 마스크

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Sensai Glycolic Acid 각질 제거 마스크는 최대한의 피부 관리 효과를 달성하는 데 도움이되는 독특한 치료법입니다. 글리콜 산, 인삼 추출물, 페릴라 및 기타 귀중한 성분을 포함한 특수한 공식은 피부의 깊은 정화, 박리 및 보습을 제공합니다.

-재료:

향수 (향료제), 가수 분해 실크, 카올린, 리모넨, 리날로 올, 파 낙스 인삼 뿌리 추출물, PEG-20, PEG-400, 페릴라 오시모이드 잎 추출물, 글리세롤, 비누 퀼라이 껍질 추출물, 나트륨 EDTA, 디 칼리시 리제이트, 살리실산, 수분, 수분, 수성, 수분, 수분, 수분, 수분, 수분, 수분, 수분.

이 마스크는 매주 사용하기에 완벽하므로 피부가 항상 신선하고 손질되어 보입니다. Sensai의 각질 제거 마스크를 일반 스킨 케어 루틴에 추가하고 완벽한 결과를 즐기십시오.